新研发抗蚀刻胶，产品涵盖热固及紫外光固化等种类，成膜后具有优异的抗氢氟酸蚀刻特性，印刷塑形佳，快速退膜，能够适应于TOPCON ,异质结及其衍生品诸TBC,HBC等，有效规避激光套刻、SE等工艺对电池片的高能损伤，可为终端客户提供多种配套胶品解决方案。
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